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HMDS真空鍍膜機的工作原理和特點

更新時間:2024-11-08點擊次數(shù):567

HMDS真空鍍膜機,是一種在半導體制造中用于改善基材表面特性的關鍵設備。其主要作用是在涂膠前對晶片進行預處理,以提高光刻工藝的質量和效率。

HMDS真空鍍膜機的工作原理和特點:

設備組成:HMDS真空鍍膜機主要由腔體、真空系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、充氮系統(tǒng)、加液系統(tǒng)及控制系統(tǒng)等組成。這些系統(tǒng)共同作用,確保硅片表面干燥、潔凈,并有效防止硅片的氧化和雜質擴散。

預處理過程:通過多次預抽真空和熱氮加熱,設備能夠在硅片表面形成一層HMDS保護膜。這種處理可以降低硅片的接觸角,提高光刻膠與硅片的黏附性,從而降低光刻膠的用量。

自動化控制:設備采用PLC工控自動化系統(tǒng)和觸摸屏操作界面,實現(xiàn)人機交互的便捷性和操作的高可靠性。此外,它還能根據(jù)不同制程條件調整程序、溫度、真空度及處理時間。

高效處理能力:HMDS真空鍍膜機以蒸汽形式均勻涂布晶片表面,一次性可以處理多達4盒以上的晶片,大幅節(jié)省藥液使用。

應用范圍:這種設備主要應用于光刻的前道工序,適用于MEMS器件制備、半導體、光電、LED、電工電子、柔性電子器件制備等領域。

后續(xù)操作建議:

在使用HMDS真空鍍膜機進行基材預處理后,可以按照以下步驟進行后續(xù)操作:

光刻膠涂覆:在HMDS處理后的基材上涂覆光刻膠,以準備進行光刻工藝。

光刻工藝:進行光刻步驟,將電路圖案轉移到涂覆了光刻膠的基材上。

顯影和刻蝕:顯影光刻膠,然后進行刻蝕工藝,以形成所需的電路圖案。

清洗和檢測:完成光刻和刻蝕后,清洗基材以去除殘留物,并進行必要的檢測以確保工藝質量。

通過這些步驟,可以確保半導體制造過程中的精度和可靠性,提高產(chǎn)品的整體質量和性能。


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